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CVD高溫管式氣氛爐

產品簡介

CVD管式氣氛爐適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容器（MLCC）氣氛燒結等實驗。

產品型號：JK08-13-2B

更新時間：2024-11-22

廠商性質：生產廠家

訪問量：1224

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CVD高溫管式氣氛爐

JK08-13-2B 產品特點：

可根據用戶需要設計生產（二溫區、三溫區、多溫區），可預抽真空，通多種氣氛。真空泵、閥采用進口設備，性能可靠?？刂齐娐愤x用模糊PID程序控制技術，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點。在預熱方式上設有本公司自主研發的自動升溫預熱程序。在程序下*不需要操作人員監看、調整工作電流，可將工作人員從繁瑣的操作中解放出來。本系列制造技術已達國內水平。

JK08-13-2B 技術參數：

型號	JK08-13-2B
設計溫度	1000-1300℃
控溫精度	±1℃
極限真空度	-0.01mpa（機械泵）
溫區	雙溫區
管徑長度	Ф100＊1200
輸入功率	9KW
電源電壓	AC380V
加熱原件	硅碳棒、鎳鉻絲

JK08-13-2B

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CVD管式氣氛爐適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容器（MLCC）氣氛燒結等實驗。

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